아이에스티이가 SiCN PECVD(플라즈마화학기상증착) 장비 개발에 성공하며, 글로벌 PECVD 시장 진입을 본격화하고 있습니다. SK하이닉스와의 퀄테스트를 완료하고, 2025년 상반기 양산을 목표로 볼륨 평가를 진행 중입니다.주요 내용PECVD 장비 국산화 성공글로벌 독점 시장이던 PECVD 장비를 국내 최초로 국산화AMAT와 LAM Research가 주도하던 시장에 도전SK하이닉스와 협력SK하이닉스 D램 공정용 SiCN PECVD 장비 납품 완료2025년 상반기 양산 검증 완료 예정시장 전망비메모리·메모리 반도체 분야에서 SiCN PECVD 박막 수요 증가HBM 적층 기술 발전과 함께 PECVD 시장 성장 기대아이에스티이의 경쟁력고객 요구 성능 충족 및 글로벌 경쟁사 대비 우수한 기술력 입증국책 과제..
