삼성전자, EUV 국산 '블랭크 마스크' 첫 도입... 에스앤에스텍과 일본 독점 깨다

대한민국 반도체 공급망에 역사적인 이정표가 세워졌습니다. 삼성전자가 그동안 전량 일본 수입에 의존해왔던 EUV(극자외선) 공정용 블랭크 마스크의 국산화에 성공하며, 국내 기업 에스앤에스텍(S&S Tech) 제품을 실제 양산 라인에 전격 도입합니다.

2026년 1월 12일 업계에 따르면, 삼성전자는 현재 진행 중인 최종 평가를 1분기 내 마무리하고 2분기부터 본격적으로 국산 EUV 블랭크 마스크를 적용할 계획입니다.

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1. 블랭크 마스크: 반도체 미세 공정의 '원판 필름'

반도체 제조는 웨이퍼 위에 복잡한 회로를 그리는 노광(Photolithography) 공정이 핵심입니다.

• 블랭크 마스크란? 회로 도면을 그리기 전의 깨끗한 '원판'입니다. 여기에 회로 패턴을 새기면 '포토마스크'가 되고, 여기에 빛을 쏴 웨이퍼에 회로를 찍어냅니다.
• EUV용의 난이도: 10nm 이하 초미세 공정에 쓰이는 EUV 광원은 모든 물질에 흡수되는 성질이 있어, 일반 마스크와 달리 빛을 반사하는 특수 구조로 제작되어야 합니다. 장당 가격이 수천만 원에서 1억 원에 달하는 고부가가치 소모품입니다.

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2. 에스앤에스텍, '용인 시대' 열며 양산 준비 완료

에스앤에스텍은 삼성전자의 공급망 다변화 전략에 발맞춰 수년간 연구개발과 설비 투자를 지속해왔습니다.

• 용인 EUV 전용 센터: 지난해 10월 용인 반도체 클러스터에 준공한 전용 공장을 통해 양산 체비를 마쳤습니다.
• 기술력 검증: 일본의 호야(Hoya), 아사히글라스(AGC)가 장악했던 시장에서 국내 기업이 삼성의 까다로운 품질 기준을 통과한 것은 국내 소재·부품·장비(소부장) 산업의 비약적인 발전을 의미합니다.
• 단계적 확대: 삼성전자는 우선 일부 라인부터 적용을 시작해 품질과 수율을 검증한 뒤, 점진적으로 적용 공정을 늘려갈 예정입니다.

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3. 시장 전망 및 경제적 파급 효과

이번 국산화는 단순한 매출 발생 이상의 전략적 가치를 지닙니다.

구분	기대 효과 및 전망
공급망 안정	일본 의존도를 낮춰 지정학적 리스크 및 수출 규제 등에 대한 대응력 강화
원가 절감	수천만 원대 고가 소재의 국산 대체로 제조 단가 경쟁력 확보
시장 성장성	세계 EUV 블랭크 마스크 시장: 2026년 약 4,400억 원 → 2035년 약 1.9조 원 (연평균 16.5% 성장)
기술 낙수효과	차세대 기술인 EUV 펠리클(Pellicle) 국산화 가속화의 발판 마련

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 전문가 인사이트: "소부장 자립의 마지막 퍼즐"

10년 차 반도체 산업 분석가로서 본 이번 국산화는 **'완전한 기술 자립'**으로 가는 핵심 관문입니다.

1. 일본 독점의 종언: 그간 EUV 노광 장비는 네덜란드(ASML), 소재는 일본이 꽉 잡고 있었으나, 이번 국산화를 통해 한국이 독자적인 생태계를 구축할 수 있게 되었습니다.
2. 후속 과제 '펠리클': 마스크 오염을 막아주는 보호막인 '펠리클'까지 에스앤에스텍이 양산에 성공한다면, 삼성전자의 EUV 공정 효율은 극대화될 것입니다.
3. 에스앤에스텍의 재평가: 단순 블랭크 마스크 기업에서 **'글로벌 첨단 소재 기업'**으로 밸류에이션 리레이팅이 예상됩니다.